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El IHP y la Universidad de Nagoya investigan sobre tecnologías de semiconductores avanzados

Publicado: 28/04/2025

El Instituto Leibniz de Microelectrónica de Alto Rendimiento (IHP) en Alemania está colaborando con la Universidad de Nagoya de Japón en la investigación de campos de la epitaxia de silicio-germanio (SiGe), la nanotecnología, los dispositivos semiconductores y optoelectrónicos avanzados. Además de la investigación en nuevas tecnologías de semiconductores, la colaboración incluye un intercambio de científicos y estudiantes para compartir conocimientos y experiencias.

Colaboración IHP y Universidad Nagoya.
La Universidad de Nagoya y el IHP centrarán la investigación en los campos de la epitaxia de silicio-germanio (SiGe), la nanotecnología, los dispositivos semiconductores y optoelectrónicos avanzados.

La investigación sobre la epitaxia de nanoestructuras de SiGe permite el desarrollo de transistores y fuentes de luz energéticamente eficientes que pueden revolucionar tanto la electrónica cuántica como la optoelectrónica.

Para ello, los socios están desarrollando nuevas técnicas y métodos de epitaxia para optimizar las interfaces de semiconductores y así permitir la miniaturización de dispositivos electrónicos. Uno de los elementos clave es el estudio de los procesos de epitaxia de SiGe mediante la plataforma tecnológica IHP. Se están investigando las propiedades de los nanohilos y nanopuntos de silicio-germanio para su uso en transistores y láseres de silicio energéticamente eficientes.

Otros temas de investigación incluyen las propiedades luminiscentes de las nanoestructuras de Si y Ge y soluciones innovadoras para la tecnología sub-10 nm.

Intercambio académico para la investigación en semiconductores

Cada año, estudiantes de doctorado y de grado de Japón visitan el IHP para realizar estancias de investigación y prácticas, adquiriendo experiencia y participando en proyectos innovadores. Por otro lado, los investigadores del IHP participan en la investigación de la Universidad de Nagoya, utilizando su infraestructura única para el desarrollo de semiconductores.

En el futuro, se prevé una colaboración aún más estrecha entre el IHP y la Universidad de Nagoya para impulsar nuevos conocimientos en los campos de la epitaxia, los dispositivos cuánticos y la optoelectrónica.

En concreto, se llevarán a cabo nuevas actividades de proyecto, incluidas las que se encuentran en el marco de la iniciativa Adopción de alianzas sostenibles para un ecosistema de investigación innovador (Aspire). La investigación se centrará en materiales semiconductores avanzados y sus aplicaciones en telecomunicaciones y tecnologías de sensores.

Publicado en: Telecomunicaciones Etiquetado como: Alianzas Estratégicas, I+D (Investigación y Desarrollo), Microelectrónica, Semiconductores

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